多晶硅生產大多采用改良西門子法，用來生產半導體行業(yè)用的多晶硅。改良西門子法生產多晶硅的反應器主要為還原爐。該方法具體為：在多晶硅還原爐內安裝沉積載體，并對沉積載體進行通電使其發(fā)熱后，將還原爐內高純氯硅烷和氫氣的混合氣體加熱至1000℃以上，發(fā)生反應生成硅沉積在載體上。

還原爐是多晶硅生產的主要設備。其中，為保證多晶硅產品的品質，對還原爐鐘罩內表面的潔凈要求十分苛刻。如果鐘罩清洗不干凈、光潔度不夠，會導致硅芯擊不穿或者產品質量污染等問題。 目前，對于鐘罩內表面的清洗，使用的大多為人工手持高壓水槍進行清洗，處理速度較慢，并且整體自動化程度較低，且清洗時廢氣揮發(fā)及廢水飛濺，會對周圍環(huán)境及工作人員造成影響，清洗后的廢水較難處理，因此，目前急需一種新型的能夠解決上述缺陷的多晶硅還原爐鐘罩清洗設備。

德高潔電子級多晶硅鐘罩清洗系統(tǒng)自動化程度高，用PLC+觸摸屏柔性自動控制系統(tǒng)，能實現(xiàn)對還原爐鐘罩的自動清洗和烘干，清洗烘干時間、溫度、清洗、漂洗等工藝參數(shù)可以根據(jù)需要自行調整設定，同時具有半自動或手動功能。一次吊裝在一個工作臺上完成全部清洗、烘干過程，可實現(xiàn)遠程對樓下設備的控制和主要參數(shù)監(jiān)控。

1、清洗質量：多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)以水為動力，以水力自驅動三維洗罐器為噴頭，形成360° 3D形式的網(wǎng)狀噴射來完成爐筒內部表面的水力掃射，實現(xiàn)全面清洗效果
2、快速烘干：清洗后用經過三級凈化(10萬級)的純凈空氣，梯級加熱，保證烘干完的鐘罩不再結露，可直接進入生產作業(yè)，
3、安全清洗：清洗全程在密閉環(huán)境下作業(yè)，有效避免廢水飛濺及廢氣揮發(fā)對周圍環(huán)境造成的負面影響，環(huán)保更安全；
4、清洗效率：機械代替人工清洗，不僅能夠保證清洗的一致性和均勻性，有效減少人工投入，每一項工序機械化，全面提升多晶硅還原爐清洗效率； 德高潔多晶硅還原爐鐘罩自動清洗系統(tǒng)清洗流程：還原爐鐘罩到位→預清洗→清洗劑(堿液)清洗→漂洗→高純水沖洗→凈化熱空氣干燥→常溫干燥→鐘罩吊走，一套系統(tǒng)實現(xiàn)多種型號還原爐鐘罩的清洗烘干。
 
德高潔多晶硅還原爐鐘罩自動清洗系統(tǒng)采用環(huán)保工藝搭配清洗設備，結合自動化智能化的清洗方式，不僅能夠提高多晶硅還原爐鐘罩的清洗效率及安全性，更能夠為多晶硅還原爐鐘罩清洗時的質量、環(huán)保等問題進行加持，目前系統(tǒng)已經覆蓋90%的多晶硅生產企業(yè)，為多晶硅還原爐生產廠家提供更加環(huán)保、高效、安全的還原爐鐘罩自動清解決方案，為多晶硅生產行業(yè)的快速發(fā)展助力。